曝光机是一种重要的半导体制作设备，用于将光刻图画转移到半导体晶圆上。它是半导体工艺中不可或缺的一环，也是半导体工业中的中心设备之一。本文将从设备类型到作业原理，全面解析曝光机的相关常识。
紫外曝光机是一种使用紫外线将掩模上的图画转移到光刻胶上的设备。它主要由光源、掩模、光学系统、投影镜头、半导体晶圆等组成。其间，光源是紫外曝光机的中心部件，它发生的紫外线可以将掩模上的图画转移到光刻胶上。
电子束曝光机是一种使用电子束将掩模上的图画转移到光刻胶上的设备。它主要由电子枪、电子光学系统、掩模、半导体晶圆等组成。其间，电子枪是电子束曝光机的中心部件，它发生的电子束可以将掩模上的图画转移到光刻胶上。
曝光机的作业原理是使用光刻技能将掩模上的图画转移到光刻胶上，然后经过显影等工艺过程将图画转移到半导体晶圆上。
光刻技能是一种使用光线将掩模上的图画转移到光刻胶上的技能。它最重要的包括曝光、显影等过程。其间，曝光是将掩模上的图画转移到光刻胶上的关键过程。
(1)准备作业：将半导体晶圆放置在曝光机的作业台上，并将掩模放置在掩模台上。
(2)对准：将掩模台和作业台对准，保证掩模上的图画可以精确地转移到半导体晶圆上。
光源是曝光机的中心部件，它发生的光线可以将掩模上的图画转移到光刻胶上。常用的光源有汞灯、氙灯等。
掩模是曝光机上的一个重要部件，它上面的图画可以转移到光刻胶上。掩模的制作需求高精度的加工技能，常用的掩模资料有石英、玻璃等。
光学系统是曝光机中的一个重要部件，它可以将光线聚集到光刻胶上，然后将掩模上的图画转移到光刻胶上。光学系统的精度对曝光机的功能有着重要的影响。
投影镜头是曝光机中的一个重要部件，它可以将掩模上的图画转移到光刻胶上。投影镜头的精度对曝光机的分辨率有着重要的影响。
电子枪是电子束曝光机的中心部件，它发生的电子束可以将掩模上的图画转移到光刻胶上。电子枪的精度对电子束曝光机的功能有着重要的影响。
曝光机大规模的应用于半导体制作、平板显现、光学器材等范畴。在半导体制作范畴，曝光机是制作芯片的中心设备之一，它可以将掩模上的图画转移到半导体晶圆上，然后制作出各种芯片。在平板显现范畴，曝光机能制作出高分辨率的显现器材。在光学器材范畴，曝光机能制作出高精度的光学器材。
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